离子束系统

薄膜沉积和蚀刻系统适用于半导体(硅,III-V和II-VI族),磁头和传感器,微型机电系统,光学,发光二极管,大容量磁盘内存,声表面波器件
。微测辐射热探测器和其他一些纳米技术应用领域。


Nordiko 7000 面离子束蚀刻系统


Nordiko 7500 面离子束蚀刻系统


Nordiko 3400高级自动真空镀膜系统


Nordiko i-Octave多靶面离子束沉积系统


Nordiko α120可定制的实验室用面离子束蚀刻系统


物理气相沉积系统

这个有卓越性能溅射系统系列,被证明可以适用于研究所和试制生产。每一个生长腔可以备设计成独立操作形式或带晶片操作平台及其他腔的紧凑型一体化形式。


Nordiko 2000/2550系列,最小的批量生产物理气相沉积系统。


Nordiko 8000/8550系列,2000系列的扩大版


Nordiko 9000/9550系列,最大的物理气相沉积系统,适合150mm基片
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Nordiko 5000,可配置生长腔


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