它们是高灵活性的和非常有自动操作能力的溅射系统。
2000和2500分享一个共同的生长腔。2000的设计可能更适于大气循环批量进样或单基片进样。当这个腔配一个晶片处理平台时,增加一个真空夹片进样,这个机器便设计成为2550。两个可选择的电极群可以提供:4个200mm阴极或6个150mm阴极。
每一个电极都可以为射频二极管,直流,射频或直流/射频 磁控操作配置。
旋转基片桌可以配置,为了获得多种不同基片形式。此桌子可以旋转(速率2-30rpm)。桌子高度同样可以升高或降低来优化沉积生长。

我们最小的灵活批量物理气相沉积系列,适于100mm基片生长。