Nordiko 7500 面离子束蚀刻系统

7500展现了一个面离子束蚀刻的新面目。这个系统设计围绕了我们新的50cm离子源和一个新的高可靠性的旋转基片桌。

这个离子源是从我们射频激发离子束发生器系列中选取最大的。为了匹配这个大的离子发生器,有一个非常充沛的加速器。这个离子源就离子束品质而言具有开创性的表现。

使用在这些系统上的这个离子加速器是客户定制的,为了在应用时获得最大的效益。所有的特征都为了一个坚实的结构,阶梯行距离子束品质散发导流系数匹配离子束,为了获取最佳辐射散发紧凑低分叉面离子束。当生产于纳米级领域时,它们提供出这种性能。

非常低的分叉校准离子束,使得系统在重复蚀刻时有一个非常好的晶片非均匀性表现。双离子体桥接中和器使电子和离子在明亮表面电量中和。

连接一个工业标准SEMI(半导体制程设备安全准则)MESC(物料和设备标准编码)一致的晶片操作平台,这个系统可以适用于各种不同晶片(最大200mm直径)的生长,压盘最大能到225平方毫米。不同旋转角度的基片桌提供高效的样品冷却。终点检查使用次级离子质谱法(SIMS),可以随意地获得各种精确蚀刻应用。

晶片操作和生长监督由Nordiko经验证的自动系统控制。



开创性的离子束品质表现。