Nordiko i-Octave多靶面离子束沉积系统

i-Octave是一个多靶面离子束沉积系统,针对实验室和开发应用。建立在我在制作沉积系统超过20年经验基础上,它的配置简便而又创新,能够提供卓越的晶片内部非均匀性。该系统是自动的,可获得一个大气排放系统或真空进样锁。
基片桌提供两个旋转轴:一个保证到达材料流的均化(为了保证内在基片薄膜厚度的非均匀性);另一个轴保证对应沉积材料流的基片变化定位。后者的控制能允许沉积厚度非均匀性的调整。 这个系统是为沉积在最大150mm直径晶片(和基片)上而设计的。它的基本配置包括一个为起辉的离子源,为选择的目标相继沉积六种材料。可悬着一个第二个离子源,对准基片桌,保证离子束的预清洁,表面修正和辅助沉积。
这个系统能提供低温或涡轮分子高真空抽气组。
现代纳米级制造技术需要精确的制造工具。i-Octave离子沉积系统为溅射沉积应用提供精确离子束和表面修正。它对于敏感纳米级器件来说是一个优异的过程研究和试样工具。当生产于纳米级领域时,它提供出这种性能。

非常优异但低成本的精确离子束沉积